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        去光阻液

        去光阻液

        英文名称:Liquid to photoresist
         
        物化性质:无色透明油状液体,微有胺的气味,熔点-24.4℃,沸点:203℃;150℃(30.66kPa);135℃(13.33kPa);81~82℃(1.33kPa)。闪点95℃,相对密度1.0260(25/25℃),折射率nD(25℃)1.486,粘度(25℃)1.65mPa•s,能与水、醇、醚、酯、酮、卤代烃、芳烃互溶。挥发度低,热稳定性、化学稳定性均佳。是重要的化工原料,选择性强和稳定性好的极性溶剂,具有毒性低、沸点高、溶解力强、不易燃、可生物降解、可回收利用、使用安全和适用于多种配方用途等优点。工业上采用γ-丁内酯和甲胺合成NMP,高品级原料(工业一级以上、或试剂级)经过精馏,缩小馏程范围,同时进一步除去金属杂质等不挥发物,再经过精密过滤,除去微细尘埃颗粒。根据调节蒸馏速度和过滤精度,可使产品分别达到电子级和MOS级的技术要求
         
        主要用途:有机合成原料,有机溶剂,电子工业清洗剂。
         
        包装:25L/桶、4L/桶,也可以按客户要求定制包装。